Wafer-Heizgeräte

Kamet bietet hochwertige Heizlösungen für verschiedene Waferverarbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie, darunter Dünnschichtabscheidungssysteme (z. B. CVD, PVD, ALD). In Partnerschaft mit ARi bieten wir mineralisolierte Waferheizungen (auch als Substratheizungen oder Plattenheizungen bezeichnet) an, die für kritische Bedingungen geeignet sind und über Spezifikationen verfügen, die den außergewöhnlichen und vielfältigen Anforderungen dieser Prozesse gerecht werden. Vollständig kundenspezifische Substratheizungen sind oft die beste Lösung, wir bieten jedoch auch eine Palette an Standard-Scheibenheizungen an. Was auch immer der Kunde wählt, unsere Produkte und unsere Beratung verbessern zuverlässig die Gesamtprozessstabilität, indem sie eine optimale Temperaturgleichmäßigkeit gewährleisten.

Produktübersicht

  • Optimale Temperaturgleichmäßigkeit
  • Geeignet für Heizprozesse bis 1000 °C
  • Präzise Kontrolle der Prozesstemperaturen
  • Geringeres Kontaminationsrisiko
  • Hermetisch abgedichtete elektronische Verbindungen
  • Vakuumintegrität durch Heliumleckprüfung gewährleistet

Arten von Waferheizungen

Die Wahl des (mineralisolierten) Waferheizers wird durch die gewünschte Anwendung bestimmt. Aufgrund der hochspezialisierten und kritischen Natur von Dünnschichtabscheidungsprozessen werden unsere Heizlösungen häufig individuell angepasst, um alle Prozessparameter und das gewünschte Endergebnis zu berücksichtigen. Wir konzentrieren uns auf die folgenden Kategorien von Heizgeräten:

  • Eine Reihe von Standard-Scheibenheizgeräten
    • von 5 cm bis 16 cm Durchmesser
    • erhältlich mit einer Universalhalterung, sodass die Scheibe vom Kunden in seine speziellen Vorrichtungen eingeschraubt oder eingeschweißt werden kann
  • Kundenspezifische Substrat-/Plattenheizgeräte
    • gemeinsam mit dem Kunden entwickelt, um hinsichtlich Faktoren wie Größe, Form und Mantelmaterial genau zur Anwendungsumgebung zu passen

Ganz gleich, für welches Heizgerät Sie sich bei Kamet entscheiden, die hohe Qualität unserer Produkte und die Fachkompetenz unserer Berater sorgen dafür, dass die thermische Gleichmäßigkeit gewährleistet werden kann, die für Dünnschichtabscheidungssysteme so wichtig ist.

Semiconductor wafers using mi heating

Wofür werden Waferheizungen verwendet?

Waferheizungen werden hauptsächlich für Dünnschichtabscheidungssysteme verwendet, insbesondere in der Halbleiterindustrie, aber auch für Solarmodule, Nanotechnologien, Dünnschichtabscheidungssysteme sowie Lithografie, Glüh- und optischen Geräteindustrie. Bei diesen Vakuumprozessen werden ultradünne (manchmal nur wenige Atome dicke) Beschichtungen im Vakuum auf eine Oberfläche aufgetragen. Dabei kommen unterschiedliche Techniken zum Einsatz, die alle unterschiedliche Substrat-Heizelemente erfordern, deren Eigenschaften und Design sowohl der Betriebstemperatur als auch der Art des abzulegenden Materials entsprechen.

Unsere Waferheizer werden in folgenden Prozessen eingesetzt:

  • ALD (Atomic Layer Deposition) 200°C bis 400°C
  • CVD (Chemical Vapor Deposition) über 900°C
  • PVD (Physical Vapor Deposition) 200°C bis 400°C
  • PLD (Pulsed Laser Deposition) 500°C
  • PECVD (Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition) 200°C bis 400 °C
  • Sputtern (Beschichten durch Beschuss des Substrats mit hochenergetischen Partikeln) 350 °C

Wafer-Heizelemente können die Eigenschaften des aufgebrachten Films direkt beeinflussen, einschließlich der Haftung und chemischer Reaktionen. Sie sind entscheidend für die Gleichmäßigkeit der Erwärmung, sodass der dünne Film gleichmäßig aufgebracht wird.

Spezifikationen und physikalische Eigenschaften

Um eine Waferheizung zu gewährleisten, die perfekt auf jede Anwendung abgestimmt ist, müssen die Spezialisten von Kamet und/oder ARi eine Reihe von Variablen und Spezifikationen berücksichtigen:

  • Die verschiedenen Arten von Substratheizelementen sind in verschiedenen (anpassbaren) Formen, Größen und Längen erhältlich.
  • Elektrische Verbindungen sind hermetisch abgedichtet. Die Wahl der Abdichtung hängt vom Vakuumgrad und dem Vorhandensein von Chemikalien/Verunreinigungen ab.
  • Die Vakuumintegrität wird von ARi mithilfe einer Helium-Leckprüfung sichergestellt.
  • Vakuumflansche („O-Ringe“) sind verfügbar, um Strom- und Sensorkabel außerhalb des Vakuums anzuschließen. Unsere Metall-Keramik-Heizverbinder sind in diesem Zusammenhang ebenfalls nützliches Zubehör.
  • Heiß- und Kaltwärmeabschnitte sind anpassbar.
  • Eine geschweißte Außenummantelung kann geliefert werden, um die Kontamination in gefährlichen Umgebungen zu minimieren. Zum Beispiel Edelstahl oder Inconel 600.
  • Interne Thermoelemente können zur präzisen Überwachung der erzeugten Wärme eingebaut werden.

All diese Möglichkeiten bedeuten, dass wir Waferheizungen liefern können, die gegen oxidierende, inerte, reduzierende und (Hoch-)Vakuumumgebungen beständig sind. Der sehr breite Temperaturbereich unserer mineralisolierten Waferheizungen macht sie für alle Abscheidungsprozesse geeignet, sogar bis zu 1000 °C. Darüber hinaus sind die Waferheizungen dank der Ummantelung sehr reaktionsschnell und weisen eine ausgezeichnete mechanische Festigkeit auf. Bei ARi Industries werden strenge Anforderungen an die Qualitätsprüfung eingehalten.

Chuck-Heizungen und Wafer-Heizungen

Ein Wafer-Chuck ist im Wesentlichen ein Werkzeug, das verwendet wird, um Halbleiter-Wafer während des Herstellungsprozesses zu halten und zu sichern. Eine Chuck-Heizung ist eine Wafer-Heizung mit den Mechanismen, um den Wafer während des Erhitzens an Ort und Stelle zu halten. Der Hauptzweck einer Chuck-Heizung besteht darin, sicherzustellen, dass der Wafer die optimale Temperatur für bestimmte Prozesse wie Abscheidung, Ätzen, Photolithografie und Glühen hat.

Chuck-Heizungen werden auf verschiedene Weise in Wafer-Chucks integriert. Wir bieten diese mit eingebetteten Heizelementen. Dies sind Heizelemente, die direkt in den Körper des Chucks integriert sind. Sie können eine gleichmäßige Erwärmung über die gesamte Oberfläche des Chucks hinweg gewährleisten, was entscheidend ist, um den Wafer auf einer gleichmäßigen Temperatur zu halten.

Wie können wir Ihnen heute helfen?

Qualität und Service von Kamet

Kamets Waferheizer-Sortiment wird von ARi industries aus den USA geliefert. Das Unternehmen verfügt über jahrzehntelange Erfahrung in der Heizwelt und ist einer unserer ältesten Partner. Die Partnerschaft, die Kamet mit ARi industries aufgebaut hat, gewährleistet umfassenden technischen Support für die Entwicklung maßgeschneiderter Heizlösungen oder die Anpassung des aktuellen Sortiments an die Anforderungen einer bestimmten Anwendung.

Einer der Gründe, warum Kamet Heating Europas führende Halbleiterunternehmen beliefert, besteht darin, dass wir die Entwicklung neuer und maßgeschneiderter Heizprodukte aktiv unterstützen. Insbesondere im Hinblick auf Substratheizer, bei denen Temperaturgleichmäßigkeit entscheidend ist, wird die Forschung von ARi kontinuierlich fortgesetzt und es werden fortlaufend Verbesserungen bei Lösungen für thermische Gleichmäßigkeit (z. B. mehrere Zonen oder kundenspezifische Substrat-Wärmeverteiler) durchgeführt.

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Example of a Wafer (heater)