Warum werden mineralisolierte Heizgeräte in der Waferproduktion eingesetzt?

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Unsere mineralisolierten Heizelemente oder Heizkabel können zum Aufheizen verschiedener Prozesse in der Waferproduktion in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Die Heizelemente können zum Beispiel für das Rapid Thermal Annealing (RTA) verwendet werden, bei dem ein Wafer sehr schnell erhitzt wird. Aber auch für Glühöfen oder andere Wärmebehandlungssysteme können mineralisolierte Heizelemente sehr gut geeignet sein.

Was ist eine Waffel?

Wafer werden aus dünn geschnittenem Halbleitermaterial hergestellt und für die Produktion von integrierten Schaltkreisen in der Elektronik verwendet. Bei der Herstellung von Wafern werden durch sich wiederholende Prozesse komplette Schaltkreise (elektrisch oder photonisch) erzeugt. Die Schaltkreise werden in Schichten aufgebaut, wobei Reinräume erforderlich sind, um Verunreinigungen wie Staub zu vermeiden. Bei der Schichtung kommen verschiedene Verfahren zum Einsatz, z.B. Ultraviolett-Belichtung und chemische Gasphasenabscheidung. Der Wafer dient als Substrat, auf dem die Mikroelektronik aufgebaut wird. Es gibt verschiedene Arten von Substraten, die verwendet werden können: Silizium, Gallium (GaAs) oder organische Substrate (Sauerstoff, Kohlenstoff und Wasserstoff).

Auf unserer Produktseite können Sie mehr über unsere MI-Heizlösungen für Wafer-Heizungen lesen.